- Нові надходження
- Простий пошук
- Розширений пошук
- Допомога
- Автори
- Видавництва
- Серії
- Тезаурус (Рубрики)
- Публічні полиці
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactiv...
Нет экз.
Статья
Автор:
Semiconductor Physics, Quantum Elecnronics and Optoelectronics: The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactiv...
б.г.
ISBN отсутствует
Автор:
Semiconductor Physics, Quantum Elecnronics and Optoelectronics: The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactiv...
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method / A. I. Levtushenko [та ін.] // Semiconductor Physics, Quantum Elecnronics and Optoelectronics. – 2017. – Vol.20, № 3. – P. 314-318. : fig.
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method / A. I. Levtushenko [та ін.] // Semiconductor Physics, Quantum Elecnronics and Optoelectronics. – 2017. – Vol.20, № 3. – P. 314-318. : fig.